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      ORC曝光機EXP-2031B
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      ORC曝光機EXP-2031B

      高生產性

      對應大尺寸基板:最大對應660 x 558mm

      搭載高照度燈管:曝光時間縮短25%

      對應潔凈度

      標配HEPA過濾器和底片/曝光臺面清潔機構

      EXP-2031B具備平行光光學系統,分割曝光機構,高照度燈管,溫濕度調整器,清潔機構,為ORC高階自動接觸式曝光機。

      ORC提供多種線路及防焊設備供客戶選擇。

       

      聯系人

      陸維薇  /  0769-85416451分機35328  /  VIVILU@WK.WAHLEE.COM
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